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况经理 先生
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公司地址: | 北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208 |
发布时间:2020-04-13 12:33:13
在光刻胶的生产上,光刻胶报价,我国主要生产PCB光刻胶,LCD光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小, 2015年据统计我国光刻胶产量为9.75万吨,其中中低端PCB光刻胶产值占比为94.4%,半导体和LCD光刻胶分分别占比1.6%和2.7%,光刻胶价格,严重依赖进口。
纵观***市场,光刻胶专用***生产壁垒高,国产化需求强烈。 化学结构特殊、保密性强、用量少、纯度要求高、生产工艺复杂、品质要求苛刻,生产、检测、评价设备***大,技术需要长期积累。
至今光刻胶专用***仍主要被被日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、美国杜邦、美国futurrex、德国巴斯夫等化工寡头垄断。
NR9-3000PY 相对于其他光刻胶具有如下优势:
- 优异的分辨率性能
- 快速地显影
- 可以通过调节***能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度
- 耐受温度100℃
- 室温储存保质期长达3 年
NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm
NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm
NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm
NR9-6000PY 5.0μm -
12.2μm
Resist Thickness
NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm
NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm
NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm
NR71-6000PY 5.0μm - 12.2μm
提供***化学技术的多样化解决方案
成立于1985年,总部设在美国新泽西州,富兰克林市,广东光刻胶,高速成长并超过20年连续盈利的跨国公司
公司业务覆盖范围包括北美,光刻胶多少钱,亚太以及欧洲
基于多样化的技术
应用领域:微电子、光电子、LED、太阳能光伏、微机电系统、生物芯片、微流体、平面印刷
解决方案:高性能的光刻胶、掺杂涂层、平坦化涂层、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻挡层(Barrior Layere)、湿法制程
客户:从财富100强到以风险***为背景的设备研发及制造公司
使命
目标
提供特殊***和全新工艺来增加客户的产能
策略
提供独特的产品来优化生产制程,以提高设备能效
领的技术提升生产过程中的整体性价比
工艺步骤的减少降低了成本和产生瑕疵的可能
增加客户的产能和生产的效率
工艺减化
非同寻常的显微构造、金属及介电层上的图形转换、光刻、平坦化、掺杂、蚀刻、邦定
在生产过程中,不含***溶剂
支持所有客户的需要,与客户共创成功
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