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北京赛米莱德贸易有限公司

主营:光刻胶

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赛米莱德公司(图)-负性光刻胶生产厂家-江苏负性光刻胶

发布时间:2020-04-22 06:15:20        











PR1-1000A1

NR9-3000PY 负性光刻胶

负胶 NR9-3000PY 被设计用于i 线(365 nm)***,可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻

和接触式光刻等工具。

显影之后,NR9-3000PY 展现出一种倒梯形侧壁,这可以方便地作单纯的LIFT-OFF 处理。

NR9-3000PY 相对于其他光刻胶具有如下优势:

- 优异的分辨率性能

- 快速地显影

- 可以通过调节***能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度

- 耐受温度100℃

- 室温储存保质期长达3 年

Lift-Off工藝

應用領域:LEDs,OLEDs,displays,MEMS,packaging,biochips。

濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)

附着力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C

Resist Thickness NR9-3000PY 负性光刻胶

负胶 NR9-3000PY 被设计用于i 线(365

nm)***,可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻

和接触式光刻等工具。

显影之后,NR9-3000PY 展现出一种倒梯形侧壁,江苏负性光刻胶,这可以方便地作单纯的LIFT-OFF 处理。



NR77-25000P,RD8


品牌

产地

型号

厚度

***

应用

加工

特性

Futurrex

美国

NR71-1000PY

0.7μm~2.1μm

高温耐受

用于i线***的负胶

LEDOLED、

显示器、

MEMS、

封装、

生物芯片等

金属和介电

质上图案化,

不必使用RIE

加工器件的永

组成

(OLED显示

器上的间隔

区)凸点、

互连、空中

连接微通道

显影时形成光刻胶倒

梯形结构

厚度范围:

0.5~20.0 μm

i、g和h线***波长

***

对生产效率的影响:

金属和介电质图案化

时省去干法刻蚀加工

不需要双层胶技术

NR71-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR71-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR71-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR9-100PY

0.7μm~2.1μm

粘度增强

NR9-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR9-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR9-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR71G-1000PY

0.7μm~2.1μm

高温耐受

负胶对 g、h线波长的灵敏度

NR71G-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR71G-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR71G-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR9G-100PY

0.7μm~2.1μm

粘度增强

NR9G-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR9G-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR9G-6000PY

5.7μm~12.2μm

品牌

产地

型号

厚度

耐热温度

应用

Futurrex

美国

PR1-500A

0.4μm~0.9μm




按感光树脂的化学结构,光刻胶可分为光聚合型光刻胶、光分解型光刻胶和光交联型光刻胶。在应用中,采用不同单体可以形成正、负图案,并可在光刻过程中改变材料溶解性、抗蚀性等。

光聚合型光刻胶

烯类,在光作用下生成自由基,自由基再进一步引发单体聚合。

光分解型光刻胶

叠氮醌类化合物,负性光刻胶生产厂家,经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性。

光交联型光刻胶

聚乙烯醇月桂酸酯,在光的作用下,分子中的双键打开,链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构从而起到抗蚀作用。

按***波长,负性光刻胶报价,光刻胶可分为紫外(300~450 nm)光刻胶、深紫外(160~280 nm)光刻胶、极紫外(EUV,13.5 nm)光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X 射线光刻胶等。

按应用领域,光刻胶可分为PCB 光刻胶、LCD 光刻胶、半导体光刻胶等。PCB 光刻胶技术壁垒相对其他两类较低,而半导体光刻胶代表着光刻胶技术的水平。









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