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发布时间:2020-04-29 03:20:17
5,负性光刻胶公司,显影液
在已经***的硅衬底胶面喷淋显影液,或将其浸泡在显影液中,正胶是***区、而负胶是非***区的胶膜溶入显影液,胶膜中的潜影显现出来,形成三维图像。
显影完成后通常进行工艺线的显影检验,通常是在显微镜下观察显影效果,显影是否彻底、光刻胶图形是否完好。
影响显影的效果主要因素:
1,***时间,2前烘温度和时间,3光刻胶膜厚,4显影液浓度温度,5显影液的搅动情况。
北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY,此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线(366纳米)***工具。当显影后NR9-3000PY显示出负的侧壁角度,是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势:
光刻胶底膜处理:清洗:清洁干燥,负性光刻胶,使硅片与光刻胶良好的接触。烘干:去除衬底表面的水汽,使其彻底干燥,增粘处理(涂底): 涂上增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物,HMDS,光刻胶疏水,Sio2 空气中,负性光刻胶供应商,Si-OH, 表面有,亲水性,使用HMDS (H2C)6Si2NH 涂覆,熏蒸 与 SI –OH结合形成Si-O-Si(CH2)2,与光刻胶相亲。
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